離子刻蝕機(jī)RIE-10NR
加工至?220 mm（?3“x 5，?4”x 3，?8”x 1）；
高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴(yán)格的工藝要求全自動“一鍵式”操作；
自動壓力控制，允許獨(dú)立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過程壓力精確控制，便于維護(hù)；
于Windows的用戶界面，豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能，是一個可靠和持久的系統(tǒng)，全球安裝了400多個系統(tǒng)。
菜單
去層研磨鑲嵌
加工至?220 mm（?3“x 5，?4”x 3，?8”x 1）；
高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴(yán)格的工藝要求全自動“一鍵式”操作；
自動壓力控制，允許獨(dú)立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過程壓力精確控制，便于維護(hù)；
于Windows的用戶界面，豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能，是一個可靠和持久的系統(tǒng)，全球安裝了400多個系統(tǒng)。
RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，能夠滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。
計算機(jī)化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶友好的界面。
該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。
憑借其圓滑、緊湊的設(shè)計，RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。
硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。
1、加工至?220 mm（?3“x 5，?4”x 3，?8”x 1）。
2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴(yán)格的工藝要求全自動“一鍵式”操作。
3、自動壓力控制，允許獨(dú)立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過程壓力精確控制，便于維護(hù)。
4、于Windows的用戶界面，豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能，是一個可靠和持久的系統(tǒng)，全球安裝了400多個系統(tǒng)。
基板 | 220 mm（?3“x 5，?4”x 3，?8”x 1） |
負(fù)載 | 開放式 |
上下電極 | ?240 mm |
射頻功率 | 300瓦@13.56兆赫，自動匹配（500瓦為選項(xiàng)） 可切換射頻供電電極（陽極/陰極模式）為選項(xiàng) |
氣體管道 | 內(nèi)部2條MFC控制的氣體管道（最多6條） |
泵 | 干泵（500升/分鐘） |
操作系統(tǒng) | 觸摸屏操作（可選擇基于Windows的用戶界面）、配方管理 |
端點(diǎn)檢測 | 光學(xué)發(fā)射光譜（OES）作為一種選擇 |
尺寸 | 500 mm（寬）x 920 mm（深）x 1501 mm（高） |
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